MCGrating光栅设计软件光栅的设计

  相关设置为反射扫描与两个靠近法线的角度之间的关系。入射光波 H 磁场在结构平面上的投影与光栅凹槽平行。打开源文件 Doub_TM_Res_AngI_AngG.cha,点击 Run 按钮,等待结果,然后点击Graph 按钮。如有必要,可从 Graph 窗口打开 View,并选择 Top Color Image 和 Color Scale。

  本例还演示了基于坐标系建模的光栅。相关设置为反射扫描与两个靠近法线的角度之间的关系。入射光波 E 电场在结构平面上的投影与光栅凹槽平行。打开源文件 Doub_TE_Res_AngI_AngG.cha ,并点击 Run 按钮,等待结果,然后点击 Graph 按钮。如有必要,可从 Graph 窗口打开 View ,并选择 Top Color Image 和 Color Scale。

  本例演示了TE偏振的Littrow结构高效率金属正弦光栅。在波长1000nm处,基底折射率接近于铝的实际折射率。打开源文件Littrow.cha,点击Run按钮以评估衍射效率。再次点击Run按钮,然后点击Graph按钮。如有必要,可从Graph窗口打开View,并选择Top Color Image和 Color Scale。

  如有必要,同时可以计算衍射效率、近场、偏振、反射、透射以及内部场。可设计各种光栅结构:方波全息光栅,任意光栅参数分析,软件具有直观的可视化界面,正弦、梯形、三角形、三点折线式及其它许多结构光栅等。包括光栅厚度,包含衍射光栅、结构、衍射光学元件、光伏系统和光谱光栅。闪耀光栅,材料,可从 Graph 窗口打开 View ,全息光栅、布拉格光栅、表面光栅、光子晶体、衍射光束分束器、偏光器、抗反射各种定制特性可以使用户分析和优化用户自定义结构的光栅。然后点击 Graph 按钮。打开源文件 Doub_TE_Res_Refl_Field.cha ,第一步、设置用于扫描结构内部和环境介质中的电场模式E。电介质材料和金属材料折射率(可通过实部和虚部来定义);

  光栅的特征尺寸可以从纳米到毫米量级。这些包括导入测量的高度轮廓以及使用公式描述一个高度轮廓的可编程高度轮廓或者折射率分布介质。并选择Front。点击 Run 按钮。

  平面波产生于作为径向偏振CO2激光器中后腔镜的三角形光栅。入射光正常入射到三角形的一边以进行高级扫描。具有两个变化:(1)扫描数据以内置表格的形式输出MC Grating代码。(2)由内置方程提供入射条件。本例是研究由三角形光栅产生的TM偏振平面波的入射角与Littrow反射之间的关系。这是由于进一步应用优化参数来设计铜基底的同心衍射光栅后腔镜。其作用是实现CO2激光器的径向偏振选择。打开源文件 Littrow_CO2_Table.cha or. Littrow_CO2_Equations.cha.a) 点击Run按钮,然后点击Graph按钮,选择ANG_4作为X列和点击OK按钮。b) 查看TE – TM的反射对比度。切换到General,将Polarization更改为TE,并重复先前的说明(使用红色曲线)。

  任意偏振状态分析,各级指数任意变换,任意光栅级次分析,可编辑材料数据库,基于遗传算法优化,可输入任意代数约束表达式,任意数量控制参数,多重衍射效率目标,全差分优化选项控制。

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