光栅的设计今日播报!Inprentus斩获新合同将为客户提供半导体计量高精度衍射光栅

  具体来看,Inprentus和EUV Tech将合作优化光学元件的设计,以最大限度地提高半导体计量应用的效率和光学特性。

  Inprentus目前已经可以持续实现50万以上的分辨率规格,这对同步加速器和其他激光应用是非常有价值的。除了此次的新合同之外,此前Inprentus还获得了24.8万美元的合同,为美国能源部SLAC国家加速器实验室提供超高精密衍射光栅;该公司还获授予一份超过20万美元的合同,为欧洲X射线自由电子激光器提供高效率的衍射光栅。

  成立以来,该公司旨在将创新的纳米级刻划技术商业化。该技术是一种高精度曲面图形化的通用方法,特别适用于X射线和EUV衍射光学产品的制造,它必须以0.1度角的精度成型,并在几十厘米的距离上以纳米精度进行定位。

  Inprentus公司成立于2012年,总部位于美国伊利诺斯州,专注于设计、制造和销售用于同步辐射设施、半导体制造和增强现实(AR)波导的衍射光栅,其客户包括了不少全球500强企业、学术机构和政府实验室。

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  10月5日,美国衍射光栅技术与产品开发商Inprentus宣布获得一份新合同,将为EUV测量产品供应商EUV Tech公司提供定制设计的发光衍射光栅,用于半导体计量。目前,合同金额尚未披露。

  今日播报!Inprentus斩获新合同,将为客户提供半导体计量高精度衍射光栅

  EUV Tech成立于1997年,总部位于美国加利福尼亚州马丁内斯,能够为半导体行业设计、制造和提供波长EUV测量工具的生产。

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  对于此次合作,EUV Tech首席执行官Patrick Naulleau表示:“与Inprentus团队的合作使EUV Tech能够在开发独特的新型EUV掩模相位测量工具方面显著缩短上市时间,同时还提供了最先进的光学组件。”

  这些新的光栅设计使提高光谱仪器的效率和灵敏度成为可能,其衍射光栅正进一步在高功率激光市场的商业应用中渗透,目前,用于原子光谱仪器和分析系统的子系统。这些发光光栅还提供了更高的光学效率,同时提供了减少这些仪器光学子系统中光学元件数量的潜力,结合广泛的波长范围,用于制造、科学研究和表面图案的各种应用,从而降低其成本和复杂性。并将利用金属和介质涂层来降低激光诱导损伤阈值(LIDT)。

  据介绍,提高X射线、紫外线和可见光光谱分析应用中的光学效率,是激光、光谱学和同步光源市场的长期目标。在过去的两年中,Inprentus能够提供更好的衍射光栅规格,从而提供了更高的光学效率、新的束内诊断功能,以及比以往商业化应用更高的分辨率,这些改进是使用标准的衍射光栅统治技术无法实现的。在过去的几年里Inprentus不断实现突破,并为自身的同步加速器和自由电子激光器客户提供支持。

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